現(xiàn)在，一組來自美國Brigham Young大學(xué)的科學(xué)家們把DNA自組織技術(shù)同微制造印刷術(shù)結(jié)合起來，制造納米通道、納米線和納米溝等結(jié)構(gòu)。這項發(fā)現(xiàn)為目前光學(xué)印刷術(shù)所達不到的尺寸下的納米加工開辟了新的路徑。他們的成果發(fā)表在最新一期的《Small》上。
研究人員Adam Woolley和Héctor Becerril發(fā)明了一種利用DNA為模板來定義基底圖案的方法。他們把DNA在基底上排列整齊，再在上面沉積一層金屬膜。DNA分子起納米蠟紙的作用，這樣來在基底上定義一些小于10納米的圖案。由于金屬膜以一定角度沉積，DNA分子的投影來定義基底上圖案的尺度，因此這種方法被研究人員稱為“DNA投影納米印刷術(shù)”。
此后研究人員使用半導(dǎo)體工業(yè)中常用的活性氣體等離子體對圖案表面進行各向異性刻蝕，在基底上得到了高縱寬比的溝槽。這些溝槽可以在頂端密封，來形成連續(xù)的納米通道；或者可以被化學(xué)功能化，作為沉積金屬納米線的模板。這些模板溝槽和制造出的納米線橫截面只有30納米，并能被裁剪成小于10納米。溝槽的確切尺寸可以通過改變沉積角度和沉積厚度來控制。
研究人員相信能夠用表面對齊的DNA分子來實現(xiàn)復(fù)雜圖案到基底的轉(zhuǎn)換。Wooley說：“這項技術(shù)的特點是能利用DNA形成圖案，而并不需要DNA保持其核酸結(jié)構(gòu)不變。”他認(rèn)為DNA投影納米印刷術(shù)能夠應(yīng)用在納米流體通道和化學(xué)傳感器領(lǐng)域。
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