Mapper Lithography公司日前表示，它已經(jīng)在其用于高端芯片制造的多束無(wú)掩模光刻機(jī)的開(kāi)發(fā)上取得了重要進(jìn)展。

　　該公司演示了它的產(chǎn)品能夠?qū)崿F(xiàn)批量并行電子束印刷，它的演示機(jī)上展示了45納米密度模式（32納米節(jié)點(diǎn)）和多個(gè)并行電子束。Mapper公司表示，這種機(jī)器采用了兩種技術(shù)：利用光來(lái)分別開(kāi)關(guān)電子束，并利用MEMS透鏡陣列來(lái)準(zhǔn)確聚焦并行電子束。

　　Mapper公司目前正在開(kāi)發(fā)一款帶有1000多個(gè)并行電子束的設(shè)備。該設(shè)備還運(yùn)用了可傳輸大量信息的纖維光學(xué)。

　　Mapper公司是少數(shù)幾個(gè)有希望開(kāi)發(fā)出下一代無(wú)掩膜光刻設(shè)備的公司之一。它的產(chǎn)品消除了對(duì)昂貴的掩膜的需要，可以降低生產(chǎn)成本，縮短上市時(shí)間。

　　Mapper公司投資商之一臺(tái)積電對(duì)該公司的開(kāi)發(fā)成果給予了充分肯定。

　　臺(tái)積電光刻部門(mén)高級(jí)總監(jiān)Burn Lin指出：“這是一個(gè)重大突破，充分證明了Mapper低電壓方案的多束分辨率性能。我們將繼續(xù)探索將Mapper技術(shù)＼用于我們的高端制造程序中的可行性?！?

　　Mapper公司CEO Boudewijn Baud樂(lè)觀地表示：“我們整個(gè)研發(fā)團(tuán)隊(duì)為實(shí)現(xiàn)這一里程碑式的目標(biāo)付出了很大的努力。從現(xiàn)在起我們可以將精力集中在把這一技術(shù)運(yùn)用到300納米平臺(tái)。為此我們會(huì)大大擴(kuò)建我們的研發(fā)團(tuán)隊(duì)。”

（轉(zhuǎn)載）