工藝介紹

　　涂膠顯影機是芯片制成光刻工藝段非常重要的設(shè)備，用于實現(xiàn)光刻膠的超薄膠膜?？偣卜譃閮蓚€步驟：一、涂膠工藝：通過膠頭將光刻膠滴到晶圓表面，真空吸盤吸住晶圓高速旋轉(zhuǎn)進行勻膠。

　　二、均膠完成后進行烘烤堅膜，通過加熱盤使光刻膠中的有機溶劑揮發(fā)，生成光刻膠的超薄膠膜。

　　1. 升溫速度不統(tǒng)一以及溫差波動，

　　造成晶圓加熱不均

　　一旦加熱盤存在加熱不均的現(xiàn)象，可能使得光刻膠中的部分有機溶劑無法得到有效揮發(fā)，影響最終生成的膠膜品質(zhì)。

　　2. 人工調(diào)盤，過程復雜，耗費工時

解決方案

　　通過溫度均一控制技術(shù)，

　　實現(xiàn)高精度的均勻加熱

　　通過優(yōu)化算法與MATLAB實現(xiàn)均勻加熱的自動補償算法(我們稱之為溫度均一控制技術(shù))，使各分區(qū)控溫精度達到了±0.05℃，溫度均一性達到了R=0.275。

實驗數(shù)據(jù)表明，可將溫差控制為原有的1/5

　　調(diào)整時間僅需2秒，

　　完全替代人工調(diào)盤

　　只需簡單設(shè)定，即可實現(xiàn)整個空間或表面分布同一指定量。將原來需要人工調(diào)整的工作實現(xiàn)了全自動化，大幅減少人件費的投入，并降低了對熟練工的依賴。

控制系統(tǒng)

　　● 機械自動化控制器 NJ / NX系列

　　● NX系列 EtherCAT連接器單元

　　● NX系列 溫度輸入單元

　　● NX系列 數(shù)字輸出單元

實現(xiàn)價值

　　● 控溫精度：±0.05℃

　　● 溫度均一性：R=0.275，其中R=Tmax-Tmin。

　　● 調(diào)整時間：2秒

　　【經(jīng)營層】

　　■ 在整個SEMI行業(yè)激烈的競爭環(huán)境下，此次溫度均一控制技術(shù)在涂膠顯影機的應用，打破了國外廠商的技術(shù)壟斷，助力企業(yè)進一步提升行業(yè)地位。

　　【管理層】

　　■ 溫度控制精度的提升，完全建立在控制系統(tǒng)與程序的優(yōu)化，無需更改機械結(jié)構(gòu)和運動時間，導入時間更快且成本更低。

　　■ 通過優(yōu)化算法，使各分區(qū)控溫精度達到了±0.05℃，溫度均一性達到了R=0.275，大幅提升了設(shè)備的性能指標與自動化水平。

　　【工程師層】

　　■ 將原來需要人工調(diào)整的工作實現(xiàn)了全自動化，工程師可以釋放雙手，從事更具創(chuàng)造性、挑戰(zhàn)性的工作。

　　■ 歐姆龍工程師全程參與指導，后期項目調(diào)整，只需自行修改參數(shù)即可。

（轉(zhuǎn)載）