6月26日-7月1日，SEMICON China 2023系列活動在上海隆重舉行，超過1100家全球參展商共舉辦了20多場同期會議及活動，并展示了從芯片設計到設備、材料及制造、封測等全產(chǎn)業(yè)鏈的前沿技術(shù)及產(chǎn)品，展覽面積達90,000平方米，刷新SEMICON China歷年記錄。
北方華創(chuàng)攜 ETCH / Thin Film/ Diffusion / Wet等高端半導體工藝裝備及核心零部件解決方案精彩亮相，參與IC制造產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展論壇、功率及化合物半導體產(chǎn)業(yè)國際論壇、先進封裝異構(gòu)集成等多個主題論壇，并受邀在中國國際半導體技術(shù)大會(CSTIC)2023上分享了多篇專業(yè)報告，與全球業(yè)界領(lǐng)袖同場對話，一起探討新業(yè)態(tài)下中國半導體產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展新機遇。
6月26-27日，作為亞洲規(guī)模最大、最全面的年度半導體技術(shù)會議之一[1]，中國國際半導體技術(shù)大會(CSTIC)2023盛大召開。北方華創(chuàng)集團董事長趙晉榮作為特邀嘉賓，在開幕式上發(fā)表題為“集成電路裝備技術(shù)創(chuàng)新永無止境”的主旨演講，分享集成電路裝備領(lǐng)域的發(fā)展歷程及為應對新工藝、新技術(shù)而實現(xiàn)的創(chuàng)新成果。
集成電路是未來三十年支撐經(jīng)濟發(fā)展的最重要工業(yè)技術(shù)，具有巨大的創(chuàng)新空間。隨著芯片技術(shù)的發(fā)展，代表芯片技術(shù)發(fā)展水平的面積、價格、功耗、性能和上市時間五大方面都遇到挑戰(zhàn)。趙晉榮董事長介紹了集成電路技術(shù)創(chuàng)新的多種方向與路徑，并以北方華創(chuàng)的實踐為集成電路工藝裝備的技術(shù)創(chuàng)新提出了針對性的探索方向。
[1] 摘自SEMI官網(wǎng)關(guān)于2023中國半導體技術(shù)國際會議的介紹
[2] 摘自SEMI官方微信公眾號文章《CSTIC 2023中國國際半導體技術(shù)大會隆重開幕》
作為中國本土半導體設備領(lǐng)先者[1]，北方華創(chuàng)始終將“成為半導體基礎產(chǎn)品領(lǐng)域值得信賴的引領(lǐng)者”作為愿景，以客戶為中心，持續(xù)創(chuàng)新，經(jīng)過20余年的深耕與積淀，已在刻蝕、薄膜沉積、氧化/擴散、清洗等領(lǐng)域形成技術(shù)先進、性能優(yōu)異的多品類系列化產(chǎn)品，廣泛應用于集成電路、先進封裝、化合物半導體等高新領(lǐng)域，并可向客戶提供定制化解決方案。
在6月30日召開的多個SEMICON China 2023同期論壇上，北方華創(chuàng)分享了在碳化硅產(chǎn)業(yè)、先進封裝領(lǐng)域等方面的前沿產(chǎn)品與創(chuàng)新解決方案。
功率及化合物半導體產(chǎn)業(yè)國際論壇
北方華創(chuàng)微電子戰(zhàn)略發(fā)展副總裁王娜在“功率及化合物半導體產(chǎn)業(yè)國際論壇”上作題為“堅定不移，以裝備創(chuàng)新推動碳化硅產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展”的報告。報告以詳實的數(shù)據(jù)剖析了未來十年碳化硅(SiC)市場的廣闊前景，并提出中國必將成為未來全球SiC創(chuàng)新和供應中心。面對SiC產(chǎn)業(yè)高速發(fā)展的機遇，北方華創(chuàng)不斷加快科研步伐，通過持續(xù)的技術(shù)迭代與創(chuàng)新，以不斷精進的產(chǎn)品與服務推動碳化硅產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展。
IC制造產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展論壇
北方華創(chuàng)微電子刻蝕工藝總監(jiān)蔣中偉博士在“IC制造產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展論壇”上作題為“精雕細刻：刻蝕技術(shù)的發(fā)展與解決方案”的報告。報告從半導體技術(shù)發(fā)展路線入手，闡釋了半導體器件從平面2D結(jié)構(gòu)發(fā)展到立體3D結(jié)構(gòu)、更多新材料及新器件結(jié)構(gòu)的采用等全新發(fā)展趨勢如何應對刻蝕均勻性控制、高深寬比刻蝕能力等帶來巨大挑戰(zhàn)，并分享了北方華創(chuàng)的針對性解決方案。
先進封裝論壇-異構(gòu)集成
北方華創(chuàng)微電子刻蝕事業(yè)單元副總經(jīng)理謝秋實在“先進封裝論壇-異構(gòu)集成”上作題為“2.5D & 3D的工藝挑戰(zhàn)與對策”的報告。報告分析了2.5D/3D工藝作為后摩爾定律時代重要解決方案所面臨的機遇與挑戰(zhàn)。2.5D&3D TSV是先進封裝的重要組成部分，近年來遇到了技術(shù)、成本、產(chǎn)業(yè)鏈整合三方面的挑戰(zhàn)。設備廠商作為銜接上下游的角色應該占主導地位，北方華創(chuàng)致力于直面先進封裝帶來的挑戰(zhàn)，提供全套的解決方案，希望與業(yè)界同仁通力合作，打造完整的產(chǎn)業(yè)鏈條。
集成電路新工藝新技術(shù)的發(fā)展并未止步，更加先進的半導體裝備層出不窮。北方華創(chuàng)在此呼吁，業(yè)界同仁通力合作，順勢而為，以更豐碩的創(chuàng)新成果聚首來年盛會!
（北方華創(chuàng)）
