韓國運動平臺制造商VAD Instrument（以下簡稱VAD）主要為客戶開發(fā)定制化的精密運動平臺，當中包括提供給需要在真空環(huán)境下工作的制程設備。

真空應用與要求

　　許多精密工業(yè)制程都必須在真空環(huán)境下進行，目的是減少任何氣體分子在制程中對加工品的影響。而制程中所涉及到的相關運動控制零組件如導軌，基體等金屬材料，以及電機散熱問題，則需要經(jīng)過嚴格考慮，并采用兼容真空環(huán)境的光柵系統(tǒng)，包括耐高溫、高潔凈度、降低整體氣體量釋出等特殊設計。

半導體真空平臺

TONiC UHV超高真空兼容光柵

　　目前VAD大部分平臺型號均采用雷尼紹TONiC系列光柵系統(tǒng)，視精度要求配置不同種類的柵尺。

TONiC UHV光柵系統(tǒng)

　　VAD總裁Song, Baek-Kyun先生說道：“VAD一般平臺型號配置RTLC系列鋼帶柵尺，如果涉及真空應用、像顯示面板AOI檢測設備或半導體制程設備等，我們會配置更高精度的RELM系列柵尺，配置兼容真空的TONiC讀數(shù)頭，連接到位于真空腔外的接口。

　　另外我們開發(fā)用于半導體EUV光刻機的膜板檢測設備，由于精度要求達到ppm等級，需要采用雷尼紹高端的RLE系列激光尺定位系統(tǒng)，激光發(fā)射頭安裝在XY平臺上，而雷尼紹可以提供性能穩(wěn)定的激光尺，這在市場上比較少見?！?/P>

真空平臺配置RLE激光尺系統(tǒng)

　　雷尼紹TONiC UHV超高真空兼容光柵系列，從讀數(shù)頭、電纜到柵尺都是必須經(jīng)過專門設計，真空壓力高達10-10 Torr，讀數(shù)頭配置RFI屏敝線纜，其基本工作原理，規(guī)格性能與我們在大氣壓下使用的標準型TONiC型號無異。

　　但是，UHV光柵的讀數(shù)頭在設計上消除了氣密孔，并且由高潔凈的真空兼容材料和粘合劑特制而成，以避免對加工產(chǎn)品質(zhì)量造成損壞。

近乎零的熱膨脹系數(shù)柵尺

　　TONiC光柵可搭配多款不同特性的柵尺，并且適合在真空環(huán)境應用。Song,Baek-Kyun先生解釋他們選擇柵尺的準則：“我們部分高端機型，采用了雷尼紹RELM系列柵尺，主要看中它近乎零的熱膨脹系數(shù)，以確保定位精度在溫差范圍變化大的環(huán)境下得以保持，要知道真空腔的溫差可達100 °C?！?/P>

　　雷尼紹RELM是一款20μm柵距柵尺，在1 m長度內(nèi)精度高達±1 μm，以堅固的雷尼紹專利材料ZeroMet制成，其熱膨脹系數(shù)僅為0.75±0.35 μm/m/°C（20 °C時），柵尺可利用背面自帶的不干膠帶進行安裝，同時也支持機械安裝方式以避免不干膠在真空中釋出氣體。

XL-80激光干涉儀檢測精密直線平臺

　　Song, Baek-Kyun先生繼續(xù)說：“我們看好未來真空應用設備的市場需求，尤其是半導體和顯示面板等精密工業(yè)制程。目前VAD正在開發(fā)更多相關的制程平臺。在質(zhì)量管控方面，我們正在采用雷尼紹XL-80系列激光干涉儀對設備出廠前進行精度檢測，大大增加客戶對我們的設備性能表現(xiàn)的信心?！?/P>

（轉(zhuǎn)載）